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<H1>www.duv24.net : Unterstützung für 90-nm-Technologie</H1>
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<TD VALIGN=TOP CLASS=detailBereichRedaktion>Bereich >
Redaktion
> <B><FONT color="#CC3300">Nachrichten</FONT></B></TD>
<TD ALIGN=right VALIGN=bottom CLASS=detailDatum>15.07.2004</TD>
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<TD VALIGN=top CLASS=detailFirma ID=topSpace>Mentor Graphics :</TD>
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<TD VALIGN=top CLASS=detailTitel>Unterstützung für 90-nm-Technologie</TD>
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<TD VALIGN=top CLASS=detailContent>Mentor Graphics ist der Nano-Access-Allianz von Chartered Semiconductor beigetreten. Damit arbeiten die beiden Unternehmen zusammen, um umfassende Designunterstützung für die 90-Nanometer-System-on-Chip-Fertigungstechnologien von Chartered zu bieten. Sie entwickeln gemeinsam Dateien und Modelle für die 90-nm-Technologie, und zwar für Calibre DRC, Calibre LVS und Calibre xRC. Diese nutzen die physikalischen Eigenschaften zur Verifizierung, parasitären Extraktion und Auflösungsverbesserung der Design-to-Silicon-Plattform Calibre, dem internen Standard für die Überprüfung der Entwurfsregeln von Chartered. Die Nano-Access-Alliance verbindet kritische SoC-Technologien und Services mit den Nano-Access-Halbleiterfertigungsprozessen für 90 nm und darunter.</TD>
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<P><I>Diese Seite wurde am 25.09.2004, 13:13 Uhr aktualisiert</I></P>
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